日本官民合作設立的晶片代工廠Rapidus正在北海道千歲市興建工廠、目標2027年量產2納米（nm）晶片。而Rapidus訂購的極紫外光（EUV）微影設備將在12月中旬送抵北海道新千歲機場，這將是日本國內導入的第一台EUV微影設備。
日經新聞14日報道，將設置在Rapidus北海道工廠的EUV微影設備將在12月中旬送抵北海道新千歲機場，這將是日本國內導入的第一台EUV微影設備、將利用多架大型貨機運送。
EUV微影設備是量產最先進晶片所不可或缺的，1台售價數百億日元，Rapidus未來規劃導入數台EUV設備。生產EUV設備的艾司摩爾（ASML）將在千歲市內設置服務據點。
據報道，Rapidus計劃在2025年4月試產2納米晶片，據社長小池淳義指出，包含EUV設備在內、北海道工廠內「將導入2百多台設備」。據千歲市指出，工廠工程進度（10月底）為63%、照計劃進行。在11月中旬時、有約4,400名工人參與工廠興建。
（首圖來源：Rapidus）
