2023年末，ASML向英特爾交付了首台High-NA EUV光刻機，型號為TWINSCAN EXE:5000的系統。業界普遍認為，High-NA EUV光刻技術將在先進晶片開發和下一代處理器的生產中發揮關鍵作用。不過這種情況最近似乎發生了變化，各個晶圓代工廠都在減少對High-NA EUV依賴，並且延後引入新技術的時間。特別是最近來自英特爾董事的發言，讓市場對High-NA EUV的前景產生了更多的疑問。
據Wccftech報道，近期有投資機構開始下調了ASML的目標股價，從每股795歐元降至759歐元，意味著每股收益將減少大概5%，原因就是High-NA EUV需求放緩，同時也調低了ASML在2026年和2027年的收益預期。不過對ASML股票的評級並沒有改變，仍堅持「買入」評價。
按照那位不願意透露姓名的英特爾董事的說法，新的電晶體設計，比如GAAFET和CFET，可以降低光刻機在晶片製造過程中的重要性。這些設計是從四面「包裹」柵極，晶片製造商將更多地關注通過蝕刻來去除多餘材料，而不是增加晶圓在光刻機上花費的時間來減小特徵尺寸。隨著晶片製造中橫向方向的重要性日益增加，High-NA EUV的重要性相比於EUV就沒那麼重要了。
從長遠來看，人工智慧（AI）浪潮帶動了晶片產業的發展，投資機構對ASML產品的長期需求仍保持樂觀，因為這些晶片普遍採用最新的半導體製造技術，市場對光刻設備的需求仍處於上升趨勢。
