挑戰ASML，日本半導體設備大廠Canon宣布開賣採用「納米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）」技術的微影設備，可用來生產5納米（nm）晶片，且經過改良，將可進一步用來生產2nm晶片。
Canon發布新聞稿宣布，已於13日開賣採用「納米壓印」技術、可用低成本製造高性能先進晶片的微影設備「FPA-1200NZ2C」。Canon指出，NIL微影設備可用來生產現行最先進的5nm邏輯晶片，且經由改良，期待可進一步用來生產2nm產品。
產經新聞報道，Canon目標藉由NIL微影設備挑戰在先進晶片製造設備上居於領先地位的荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding N.V.）。ASML是目前全球唯一一家可生產晶片細微化所不可或缺的「EUV（極紫外光）」微影設備廠商。
彭博社報道，有別於現行的微影設備須藉由曝光、將電路圖案燒在晶片上，NIL技術則是可像印章一樣、直接將圖案壓印在晶片上，因可一次性就形成電路，縮短製程時間、更省電。Canon在10年前就和日本光罩廠大日本印刷、鎧俠（當時為東芝）攜手研發NIL技術。日本政府自7月起加強高性能晶片製造設備的出口管制，而關於Canon的NIL設備是否在管制對象內，Canon避談、僅表示會遵照法規規範來執行。
ASML 13日重挫2.76%，收599.75美元。
（首圖來源：Canon）
