近日，原始設計製造商Kinko Optical宣布選定採用Beneq公司的C2R等離子體增強空間原子層沉積（ALD）系統，助力合作夥伴大規模生產用於衍射波導的高折射率、低損耗間隙填充光學鍍膜。
當下，XR行業正以迅猛之勢蓬勃發展，其增長的強大動力源自消費者對沉浸式體驗的迫切需求，像XR眼鏡這類消費電子產品愈發受到市場青睞。近年來，全球眾多頂尖科技公司和原始設備製造商紛紛在該領域重金投入，積極開展創新研發。
而XR眼鏡的核心部件便是AR波導，為了達到最佳的使用效果，先進的表面浮雕光柵（SRG+）和納米壓印光刻（NIL）成為當前主流的技術平台，它們能夠很好地滿足消費級應用在性能、生產以及成本等方面的嚴格要求。
然而，這些主流技術所構建的複雜3D納米結構，給傳統的鍍膜方法帶來了巨大挑戰。傳統方法在應對這些複雜結構時，往往難以達到所需的性能標準。在此背景下，先進的光學鍍膜顯得至關重要，它不僅能夠顯著提高效率、亮度和耐用性，還能助力實現高性能的大規模製造。Beneq的C2R技術恰好滿足了這些迫切需求，具備卓越的性能表現，可幫助製造商達到新一代AR設備的嚴苛標準。
C2R技術採用了創新的旋轉式空間原子層沉積設計，巧妙地將前驅體在空間中分離，從而實現了比傳統原子層沉積快100倍的沉積速率，最高可達2000 nm/h，同時還能保持出色的均勻性和精度。它支持多種高折射率材料，如Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂以及多層堆疊結構，其可調折射率最高能達到約2.61（以TiO₂在448 nm波長處為例），光學損耗低至約3 dB/cm。
此外，C2R技術還有其他諸多顯著優勢。它採用低溫加工，溫度低至100°C，能夠很好地兼容聚合物基底；可以對複雜光柵進行共形間隙填充；還具備零應力塗層特性，應力控制範圍在1000 MPa至-200 MPa之間。其原位寬帶監測功能可確保實時優化，能夠在不影響質量的前提下製造更厚的多層結構。
Kinko Optical表示：「我們很早就洞察到原子層沉積技術在鍍膜質量、保形性以及提供高折射率、低損耗材料方面的巨大潛力。藉助Beneq的C2R技術，我們成功實現了性能與品質的完美平衡。它將無與倫比的沉積速度與低溫工藝相結合，真正實現了大規模生產，同時還能保持複雜結構的精度。這使得我們能夠加速AR波導的商業化進程，為下一代XR眼鏡帶來沉浸式、無縫的體驗。」
