9月4日,AR光學企業廣納四維宣布與納米圖案化技術企業EULITHA(優利賽爾)達成戰略合作,雙方將整合碳化矽光學器件與DUV深紫外光刻核心技術,共同推動高性能碳化矽光波導量產落地,賦能消費級AR眼鏡產業升級。

據了解,廣納四維創新性將碳化矽材料應用於光波導領域,依託材料高折射率、高機械強度與優異透光性的優勢,搭配自研光刻、刻蝕工藝,可在碳化矽基底完成納米級高精度光柵加工,打造出支持單片全彩顯示、無彩虹紋的優質光波導方案,有效優化AR設備顯示效果。
合作方EULITHA深耕納米圖案化技術,將通過先進DUV深紫外光刻工藝,實現碳化矽基底大面積、高精度圖案製備。該技術可單次曝光成型多組波導結構,在保障超高解析度的同時,大幅提升量產效率。






