此前在公布了2025財年第二財季（截至2024年7月28日）財報時，英偉達創始人兼CEO黃仁勛先生承認了前一段時間的媒體的報道，Blackwell架構產品生產上出現了一些問題，導致較低的良品率，從而影響了出貨。英偉達在一份聲明中表示，對Blackwell架構GPU的掩膜進行了改動，以提高產量。
近日有網友透露，英偉達Blackwell架構產品的生產問題不僅僅影響到數據中心產品，也波及到了即將發布的新一代遊戲顯卡，相關的晶片也需要修改掩膜設計並重新流片。據了解，英偉達共修改了八款4nm產品的設計。按照目前數據中心產品延後出貨的情況來看，GeForce RTX 50系列的發布和上市時間表可能也會相應延期，傳聞發布時間已經從今年第四季度延至CES 2025。
此外，GeForce RTX 50系列顯卡的功耗可能也會有所增加，越高端的型號，增加的部分越明顯，不同型號的增幅在20W到50W之間。不過距離新顯卡的發布還有至少幾個月的時間，不排除英偉達在最後階段還會進行調整，在過去這樣的事情也曾發生過。
根據之前的說法，Blackwell架構GPU是首批採用台積電CoWoS-L封裝的產品，其使用RDL中間層與LSI橋接器連接小晶片，可實現約10Tb/s的數據傳輸速率。由於GPU晶片、RDL中間層、LSI橋接器、以及基板之間的熱膨脹係數（CTE）不匹配，容易導致翹曲和系統故障。為此英偉達不得不重新設計GPU晶片的頂層金屬層和凸塊，以提高良品率。
