今年初，英偉達宣布台積電（TSMC）和新思科技（Synopsys）兩大半導體行業巨頭將使用計算光刻平台進行生產，加速製造並突破下一代先進半導體晶片的物理極限。英偉達創始人兼首席執行官黃仁勛表示，計算光刻是晶片製造的基石，利用cuLitho與新算法，相比於當前基於CPU的方法，極大地改進了半導體製造工藝。
英偉達確認，台積電正在使用cuLitho計算光刻平台進行生產，使其能夠加速下一代晶片技術的開發。英偉達還開發了應用生成式人工智慧的算法，以進一步提升cuLitho計算光刻平台的價值，與加速計算相結合，讓工作流程提升了額外兩倍的速度。
台積電董事長兼首席執行官魏哲家表示：「我們與英偉達合作，將GPU加速運算整合到台積電的工作流程中，從而實現了性能的巨大飛躍，大幅提高了吞吐量，縮短了周期時間，並降低了功耗要求。」
計算光刻主要通過軟體對整個光刻過程進行建模和仿真，使用光掩模文件的數學預處理來調整光學光刻中的像差和效果，以優化光源形狀和光罩形狀，減小光刻成像與晶片設計差距，從而使光刻效果達到預期狀態，從而提高良品率。據了解，利用cuLitho計算光刻庫，可以將工作負載轉換成GPU並行處理，使得500個NVIDIA DGX H100就能完成40000個CPU組成的系統所完成的工作。
英偉達稱，通過GPU而不是CPU運算，可以將計算光刻的效率提高40倍，大大減輕晶圓廠的負擔。
