德國弗勞恩霍夫光子微系統研究所正積極投身於 AR 技術的革新，致力於開發高性能的半透明 MicroOLED 顯示器。
在先前突破性地實現了 20% 透明度的顯示器基礎上，該團隊現已首次在 CMOS MicroOLED 顯示器領域實現了 45% 透明度，這一成就標誌著AR顯示技術的一次重要飛躍。
矽基 MicroOLED 憑藉其卓越的像素密度（PPD）、高亮度、高解析度、高填充因子、出色的能效以及更長的使用壽命，被視為 VR、AR 及 MR 應用中不可或缺的圖像生成核心。然而，傳統矽基技術的透明度局限一直是阻礙透視型 AR 設備發展的主要障礙，迫使設計者不得不依賴複雜且笨重的光學系統，這不僅增加了設備的體積和重量，還降低了整體的光學效率。
德國弗勞恩霍夫光子微系統研究所的研究人員提出了一種革命性的解決方案，將超薄電路層與精密微光學組件直接集成於晶片之上，創造出一種新型透明微顯示器，該顯示器同時兼備光學組合器的功能。這一設計優化了光學路徑，縮減了設備的體積，還大幅提升了光學效率。
研究團隊介紹道：「我們的創新之處在於利用現代 CMOS 工藝在絕緣矽晶片上構建了超薄電路層，並通過精密的 IC 設計和獨特的工藝流程，將其完美轉移至玻璃基板上，從而實現了這款高透明度的微型顯示器。」
該研究所表示未來將持續深耕透明度提升技術，並積極準備將這一前沿成果轉化為面向市場與客戶需求的定製化解決方案，推動 AR 技術邁向更加廣闊的應用前景。
