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三星1dnm DRAM良品率未達標,或導致HBM5E推遲量產

2026年04月22日 首頁 » 其他

,這些環節對於維持穩定生產至關重要。今年2月三星開始量產HBM4,結合了4nm基礎裸片(Base Die),並搭配1cnm(第六代10nm級別)工藝製造DRAM晶片。隨著HBM4步入正軌,最近傳出三星決定加快後續HBM產品的開發工作,將開發周期從2年縮短至1年,使其能夠以更快的速度發布下一代HBM產品。

三星1dnmDRAM良品率未達標或導致HBM5E推遲量產

據Wccftech報道,最近有消息人士透露,三星基於1dnm(第七代10nm級別)工藝製造的DRAM晶片在試生產期間,良品率低於預期,計劃無限期推遲大規模生產,直到良品率達到目標。三星可能通過重新全面審查工藝流程,以進一步提高良品率。

三星原來打算將1dnm工藝製造的DRAM晶片用於HBM5E,也就是第九代HBM解決方案。也就是說除了HBM4外,目前1cnm工藝製造的DRAM晶片還將用於HBM4E和HBM5,連續三代HBM產品。傳聞三星可能升級下一代HBM的基礎裸片,改用更先進的2nm工藝。

三星已經投入更多資源在1dnm工藝製造的DRAM晶片上,正在韓國建設一座新工廠。據了解,該工廠占地面積約四個標準足球場那麼大,除了生產DRAM晶片,還會負責封裝、測試、物流和品控等工作,這些環節對於維持穩定的生產至關重要。

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