日本半導體設備大廠Canon Inc. 透露,新推的「納米壓印(Nano-imprint Lithography,NIL)」微影設備售價只有龍頭廠艾司摩爾(ASML Holding N.V.)最佳機台的幾分之一。
彭博社5日報道,Canon首席執行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)受訪時表示,最新NIL技術讓小型半導體廠也有機會生產目前幾乎全由大企業獨占的先進晶片。他說,「機台售價將比ASML的極紫外光(EUV)微影設備少一位數(one digit less)」,不過,最終價位尚未敲定。
御手洗表示,Canon也許無法將設備賣至中國。「就我理解,14納米以下的技術都是被禁止的,因此我不認為可以銷售。」他並說,NIL設備需要的電力只要EUV機台的十分之一;雖然NIL應該難以取代EUV,但相信這能創造新的機會和需求,已有許多客戶前來洽詢。
(首圖來源:Canon)