台積電3nm核心學者達博辭去日本終身職位 率團隊歸國

曾深度參與台積電3nm量產產線研發的中國籍科學家達博，近日辭去日本國立材料研究所的永久研究職位，帶領整建制科研團隊全職回國，受聘於母校中國科學技術大學擔任講席教授。達博1986年出生於甘肅隴南，以聯考狀元考入中科大，本碩博連讀，後赴日僅用一年便拿下該機構最年輕的永久職位。

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達博是極少數深度參與國際半導體一線產業項目的中國籍學者，牽頭美國泛林集團與NIMS的聯合研發，聚焦台積電3nm產線的電子束設備、刻蝕設備關鍵材料與核心部件。他提出的「電子衍射光學」新方向，有望顛覆傳統EUV光刻技術，未來性能或超越ASML的EUV光刻設備。

面對多家海外企業的優厚挽留，達博毅然選擇回國，投身國產半導體裝備關鍵核心技術的自主研發。此舉正值全球半導體競爭從整機設計轉向底層材料與部件的關鍵節點，他的回歸將為國產晶片突破技術封鎖注入強勁動力。