半導體曝光機大廠ASML宣布，與韓國三星電子簽署備忘錄，共同投資1兆韓元創建研究中心，並用下一代極紫外（EUV）曝光機研究先進半導體製程技術。ASML也宣布與SK海力士簽署ESG備忘錄，雙方在環境、社會和公司治理項目合作。
11月初消息，三星五年內從ASML採購50套設備，每套單價約2,000億韓元，總價值可達10兆韓元。
三星2022年6月推出全球首個採用全柵極（GAA）技術3納米製程，努力確保採購更多EUV曝光機，目標是2024上半年進入第二代3納米製程，2025年進入2納米，2027年進入1.4納米。
三星集團董事長李在鎔2022年6月拜訪ASML總部，與ASML首席執行官Peter Bennink討論EUV採購，同年11月與拜訪韓國的Peter Bennink進一步會談。鑑於EUV曝光機從下訂到交貨至少需一年，討論現在才開花結果。
ASML曾表示，年底發布首台商用High-NA (NA=0.55) EUV曝光機，2025年量產出貨。2025年客戶就能從數值孔徑為0.33傳統EUV多重圖案化，切換到數值孔徑為0.55 High-NA EUV單一圖案化，降低製程成本，提高產量。High-NA EUV曝光機將有五大客戶：英特爾、台積電、三星、SK海力士、美光。ASML與三星才會與三星加強合作EUV曝光機。
(首圖來源：ASML)
