全球半導體製造設備龍頭ASML周一（3日）表示，已與比利時晶片研究公司Imec合作，於荷蘭Veldhoven開設專為High NA EUV曝光設備的測試實驗室。
這家實驗室斥資3.5億歐元，經過多年建設，旨在為領先的晶片製造商和其他設備與材料供應公司提供早期使用High NA EUV設備的機會。ASML在曝光設備市場占主導地位，目前只有台積電、三星、英特爾及SK海力士能使用ASML當前一代的EUV設備進行生產。
新High NA設備可將解析度提高60%，有望帶來更小、更快的新一代晶片。ASML預計，客戶將在2025至2026年開始使用這款設備，進行商業製造。迄今為止，ASML只向英特爾交貨一台測試設備，後者計劃2025年將該工具用於14A製程。
儘管ASML最大EUV設備客戶台積電預期，A16晶片不需要使用High NA設備，但ASML已接到十幾個訂單，顯示市場對這一頂尖技術的強勁需求。
（首圖來源：ASML）
