據報道，有消息稱蘋果已成功獲得屏下Face ID相關專利，突破了屏下攝像頭的技術瓶頸。
屏下Face ID的核心挑戰在於提高紅外光的透光率。儘管紅外光能夠穿透顯示屏，但透射效率極低，若直接將攝像頭放置於螢幕下方，會導致人臉識別速度減慢，安全性也受到影響。
蘋果的新專利通過創新設計，移除部分子像素，使紅外光能夠更順暢地穿過螢幕蓋板，從而實現高效的屏下人臉識別。
據悉，這項技術最快將在2026年的iPhone 18系列中首次亮相。屆時，iPhone或將採用單挖孔屏設計，徹底告別現有的藥丸屏方案，為用戶帶來更純粹的全面屏體驗。
