2nm戰局膠著 日本Rapidus與台積電N2不相上下

日本Rapidus正推進其2nm工藝，有報道首次披露了該節點的邏輯密度，據稱與台積電的N2相當。

據透露，Rapidus的2HP工藝節點的邏輯密度達到了237.31百萬電晶體/平方毫米（MTr/mm²），與台積電N2工藝的236.17 MTr/mm²相當。

這一數據表明，Rapidus的2HP工藝在邏輯密度上與台積電的N2工藝處於同一水平線，甚至在某些方面更具優勢。

相比之下，英特爾的18A工藝的邏輯密度為184.21 MTr/mm²，明顯低於Rapidus和台積電的水平。

Rapidus的2HP工藝採用了高密度（HD）單元庫，單元高度為138單位，基於G45間距，這種設計旨在實現最大邏輯密度。

而英特爾更注重性能/功耗比，因此更高的密度並非其主要目標，特別是18A工藝主要用於內部使用。

Raipidus share the data with 2nm（Named 2HP)

so that，we can know the NEXT Gen process technology in Logic Density pic.twitter.com/sHsjJB3mn8

— Kurnal (@Kurnalsalts) August 31, 2025

此外，Rapidus採用了單片前端處理技術，可專注於對有限生產量進行調整，並將改進成果擴展到最終產品中，Rapidus計劃在2026年第一季度向客戶提供其2nm工藝設計套件。