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英偉達NVHBM消除三星與台積電代工競爭,將攜手開發3nm工藝製造的基礎裸片

2026年10月19日 首頁 » 其他

今年8月,英偉達英偉達NVHBM消除三星與台積電代工競爭將攜手開發3nm工藝製造的基礎裸片宣布推出NVHBM英偉達NVHBM消除三星與台積電代工競爭將攜手開發3nm工藝製造的基礎裸片。這是一種定製HBM,進一步擴展了NVLink Fusion生態系統,為XPU帶來更高的內存性能和效率。其中採用了定製的基礎裸片英偉達NVHBM消除三星與台積電代工競爭將攜手開發3nm工藝製造的基礎裸片(Base Die),相比於標準的HBM4E英偉達NVHBM消除三星與台積電代工競爭將攜手開發3nm工藝製造的基礎裸片,將內存控制器集成至基礎裸片,可以提供更高的頻寬,同時功耗更低,晶片面積也更小。作為HBM領域的主要客戶,英偉達的決定影響著儲存晶片製造商的選擇。

英偉達NVHBM消除三星與台積電代工競爭將攜手開發3nm工藝製造的基礎裸片

據Wccftech報道,英偉達的NVHBM需要三星和台積電的參與,在製造領域採取更為精簡的流程。三星和台積電似乎已經聯手,開發3nm工藝製造的基礎裸片,最終目標是打造一個標準化產品,減少質量驗證步驟。

傳聞英偉達已經要求三星、美光和SK海力士選擇台積電3nm工藝,生產NVHBM所需要的基礎裸片。這麼做的最大好處是,英偉達無需分別驗證各廠商樣品,節省了寶貴的時間和資源,減輕了不必要的負擔。其中三星已經接受了這一要求,也是其首次改變自身的HBM製造流程,考慮到HBM的巨大需求,並不介意與台積電組建臨時聯盟。不過三星仍然在評估自家代工廠,擔心NVHBM的需求超過了台積電的產能。

其實早些時候就有消息稱,三星打算在定製HBM的基礎裸片上採取雙軌並行策略,根據客戶的需求,提供自家代工廠和台積電製造的基礎裸片。如果客戶選擇台積電,相關設計將由儲存業務部門負責。

今年三星的HBM4量產十分順利,其中的基礎裸片採用了自家代工的4nm工藝製造。由於三星的HBM4市場需求日益增長,不但拉動了儲存收入,也有力地支持了三星的晶圓代工業務。傳聞三星4nm生產線的50%至60%產能都用於生產HBM4的基礎裸片,使其晶圓代工業務在2026年的虧損同比減少42%。

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