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SK海力士5層堆棧3D DRAM新突破,良率已達56.1%

2024年06月27日 首頁 » 熱門科技

SK海力士5層堆棧3D DRAM新突破,良率已達56.1%


SK海力士在近期於美國夏威夷舉行的VLSI 2024峰會上,發布了關於3D DRAM技術的最新研究成果,展示了其在該領域的深厚實力與持續創新。據最新消息,SK海力士在3D DRAM技術的研發上取得了顯著進展,並首次詳細公布了其開發的具體成果和特性。公司正全力加速這一尖端技術的開發,並已取得重大突破。

SK海力士透露,目前其5層堆棧的3D DRAM良率已高達56.1%,這一數據意味著在單個測試晶片上,能夠成功製造出約1000個3D DRAM單元,其中超過一半(即561個)為良品,可用於實際應用。

此外,SK海力士的實驗性3D DRAM在性能上已展現出與現有2D DRAM相媲美的特性。儘管3D DRAM技術擁有巨大的市場潛力和技術優勢,但SK海力士也坦誠地指出,在實現商業化之前,仍需進行大量的技術驗證和優化工作。

值得一提的是,與2D DRAM的穩定運行不同,3D DRAM在性能上還存在一定的不穩定性。因此,SK海力士認為,要達到廣泛應用的目標,需要進一步提升3D DRAM的堆棧層數,實現32層至192層堆棧的存儲單元。這一目標的實現,將極大地推動3D DRAM技術的商業化處理程序。

在當前的DRAM市場中,三星、SK海力士和美光等少數幾家主要參與者依然占據主導地位,共同占據了全球市場占有率的96%以上。

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