LG Innotek申請OLED新專利，可減少OLED面板污漬與光干擾

近日，來自etnews外媒報道的消息，LG Innotek申請了一項通過均勻沉積OLED發光材料從而實現發光效率的專利，同時該項專利還可以最大程度上減少以往OLED面板上的污漬以及光干擾問題。

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據了解，LG Innotek該項專利主要在於改變FMM（全稱Fine Metal Mask精細金屬掩模結構）結構，FMM可以讓OLED有機材料精確沉積在顯示像素的元件，需要鑽出數千萬個直徑為 20 至 30 微米 (㎛) 的孔，正因為如此，FMM 行業正專注於鑽探精確的有機滲透孔。

LG Innotek OLED Mask

而LG Innotek在研究後發現，該種方法會降低有機材料沉積的效率，主要是由於FMM厚度比較薄，容易發生扭曲，從而會在OLED面板上形成污點或者光干涉引起的「波紋」，進而影響螢幕觀感。基於此，LG Innotek提出通過改變FMM結構來提升均勻性，通過不同尺寸的孔交叉形成一個孔，最大限度地減少相鄰孔之間的偏差，可減少FMM扭曲，有望可以延長OLED的使用壽命。