隨著產能供應緊張和對先進DRAM需求的增長，三星和SK海力士正在加大採購EUV光刻設備
。不過ASML（阿斯麥）的訂單依然強勁，數月前EUV產能至2027年末都已經排滿了。ASML已經明確表示，即便不斷提升產能，可能未來一段時間內也不能完全滿足市場需求。
據TrendForce報道，三星和SK海力士已經開始爭奪ASML的EUV光刻機，相關投資額在10~20萬億韓元之間。考慮到設備交貨周期翻倍，三星和SK海力士有可能選擇提前下單，以確保供應。隨著預期訂單增加，將推動兩家公司的資本支出增長。
三星打算擴展先進DRAM的產能，正在平澤P4工廠增設1cnm（第六代10nm級別）DRAM生產線用於HBM4，同時還在推進P5綜合體建設，已訂購光刻設備，預計2027年上半年第一階段潔淨室完工後搬入，首座晶圓廠計劃2028年投產。
SK海力士披露了一筆價值約11.95萬億韓元的EUV設備採購訂單，相當於其2024年末總資產的9.97%。該訂單包含安裝和改造費用，計劃於2027年12月31日前交付，以支持SK海力士向1cnm DRAM工藝過渡。
與此同時，三星和SK海力士還瞄準了下一代High-NA EUV技術，將用於未來的DRAM生產。三星和SK海力士計劃2027年開始量產1dnm（第七代10nm級別）DRAM工藝，2028年則嘗試開始啟用10nm以下工藝製造DRAM晶片，預計該階段將引入High-NA EUV光刻機。
上個月ASML警告稱，目前的EUV光刻機供應量都低於2027年和2028年的需求，而一些客戶已表達對2029年和2030年訂單的興趣。目前的客戶里，儲存晶片部分占淨銷售額的46%，而邏輯晶片部分則占54%。
