ASML推出次世代曝光機　每部售價3.8億美元比上代貴一倍

在晶片製造過程之中，曝光機是相當重要的存在，荷蘭ASML就是這方面的龍頭企業，最近正式公開High-NA EUV微影曝光設備，進一步提升晶片生產技術。

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ASML先前終於向外界公開其次世代TWINSCAN EXE:5000曝光機（光刻機），採用新一代的High-NA EUV微影曝光技術，重量達到165噸，造價3.8億美元，是上代Low-NA EUV曝光機差不多2倍價錢。ASML表示，新一代曝光機可以列印8納米的圖案，比上代密度提升1.7倍，每小時可生產185個晶片。

這樣龐大的機器需要由250名工程師在實地組裝，而且需要6個月。去年Intel已經購買一部TWINSCAN EXE:5000，不過在2025年之前都不會用於生產。而台積電方面仍然未有計劃升級曝光機，可能正在等待更先進的產品推出才一次過投資，也就是Hyper NA技術，預計在2030年左右推出。