英偉達在GTC 2023上宣布，將與台積電（TSMC）、阿斯麥（ASML）和新思科技（Synopsys）三大半導體行業巨頭合作，將加速運算技術引入到計算光刻領域，加速下一代晶片的設計和製造，並推出名為「cuLitho」的計算光刻庫。
計算光刻主要通過軟體對整個光刻過程進行建模和仿真，使用光掩模文件的數學預處理來調整光學光刻中的像差和效果，以優化光源形狀和光罩形狀，減小光刻成像與晶片設計差距，從而使光刻效果達到預期狀態，從而提高良品率。不過隨著晶片的製造工藝向3nm及以下發展，每個光罩的負擔呈指數級增長，使得晶片製造的難度加大。
目前計算光刻的過程也成為了晶片設計和製造領域中最大的計算負擔，大型數據中心需要7x24連續運作，每年消耗數百億CPU小時，去創建用於光刻系統的光罩，每年需要的資本支出和能源消耗量也十分地驚人。為此英偉達聯合台積電、阿斯麥和新思科技，歷時四年終於完成了計算光刻技術的一項重大突破，推出了cuLitho計算光刻庫，為下一代2nm工藝奠定了基礎。
英偉達表示，通過GPU而不是CPU運算，可以將計算光刻的效率提高40倍。利用cuLitho計算光刻庫，可以將工作負載轉換成GPU並行處理，使得500個NVIDIA DGX H100就能完成40000個CPU組成的系統所完成的工作。同時也可以大大減輕晶圓廠的負擔，每天僅需要原來九分之一的功耗就能生產之前三到五倍的光罩，原來需要兩周時間生產的光罩現在一夜之間就能進行處理。
從長遠來看，在AI技術的協助下，cuLitho計算光刻庫可以實現更好的設計規則、更高的密度和更高的產量。
