韓國媒體謠傳，三星電子（Samsung Electronics）削減了極紫外光（EUV）微影採購計劃，跟荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding N.V.）合作研發中心進度卡關。
Business Korea 20日引述未具名消息人士報道，2023年12月12日當天，韓國總統尹錫悅（Yoon Suk Yeol）訪問ASML荷蘭總部，陪同的人士包括荷蘭國王Willem-Alexander、三星會長李在鎔（Lee Jae-yong）、SK集團董事長崔泰源（Chey Tae-won）和ASML首席執行官Peter Wennink。三星、ASML也當場簽訂備忘錄（MOU），準備在韓國都會區共同興建EUV研發中心。然而，過了短短半年，兩家公司的合作項目傳出生變。
據報道，三星7月稍早在會議上時通知ASML，決定削減次世代High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光）微影設備的採購量；兩家公司應該很快就會著手修改相關合約。
三星原本規劃，未來十年採購的ASML次世代機台（分別是「EXE:5200」、「EXE:5400」及「EXE:5600」）將超過三台。然而，三星如今只決定導入EXE:5200，至於是否導入後續版本則會重新考慮。三星是在任命全永鉉（Young Hyun Jun）接任設備解決方案（DS）業務群負責人，重新查看進行中的項目和投資計劃後，做出了上述決定。
業界消息人士表示，研發中心的京畿道華城市（Hwaseong）土地採購案及設計與核准程序原本已在進行中，但由於三星決定削減設備採購量，相關程序已完全停擺。ASML、三星合作的研發中心是否要更改地點，甚或直接取消，將在未來討論後決定。
不過，一名三星高層依舊錶示，導入High-NA EUV微影設備的規劃沒有變動，兩家公司合作的研發中心也會在最合適的地點設立。
一位業界人士提到：「如果兩家公司能遵守原定合約，三星不僅能比競爭對手更早引進先進EUV設備，還有機會近距離觀察先進EUV技術的開發過程。如果計劃有變，恐喪失這些機會。」
（首圖來源：ASML）
