曝光機大廠ASML 21日宣布，已運送業界首套數值孔徑為0.55（High-NA）極紫外線（EUV）曝光機給英特爾。英特爾之前表示，首套High-NA EUV曝光機將用於學習如何生產Intel 18A先進制程，有望使英特爾領先對手台積電和三星。
ASML發言人表示，已出貨第一套High-NA EUV曝光機給英特爾。如9月宣布，機器從荷蘭ASML總部運往英特爾俄勒岡州晶片廠安裝。High-NA EUV曝光機體積非常大，需13個大集裝箱才能裝完。每套High-NA EU V曝光機成本約3億至4億美元。
英特爾表示，會使用最新設備學習生產Intel 18A製程，2025年量產。配備0.55 NA透鏡的高High-NA EUV曝光機達8納米解析度，比0.33 NA透鏡、13納米解析度標準EUV曝光機顯著提升。High-NA將在2納米及更先進制程發揮重要作用。
因High-NA EUV曝光機與標準EUV曝光機差異不小，需大量修正基礎設施，故領先對手幾季部署對英特爾是很大優勢。英特爾有充足時間調整Intel18A製程，一方面調整High-NA EUV曝光機基礎設施。
(首圖來源：ASML)
