儘管三星仍在為12層堆疊的HBM3E獲得英偉達認證而努力,但是並沒有放慢下一代HBM產品的開發步伐。早些時候有報道稱,三星將在年底前流片HBM4,屬於第六代HBM產品,此舉被認為是為2025年底大規模生產奠定基礎。

早在數月前,面對日益增長的市場需求和內存行業的持續復甦,三星選擇在其平澤P4工廠建設1cnm工藝的DRAM生產線,目標是在2025年6月開始量產。據TrendForce報道,已開始向Lam Research等合作夥伴訂購設備,以便在平澤P4工廠建造1cnm DRAM生產線,預計2025年第一季度開始進行安裝,為HBM4量產鋪平道路。
其實之前三星就已組裝了1cnm工藝的DRAM生產線,不過僅限於試產,而且還取得了不錯的進展。如果1cnm DRAM生產線運轉良好,且能獲得穩定的收益率,那麼三星還可能追加額外的投資,進一步擴大產能。1cnm屬於第六代10nm級別工藝,電路線寬約為11-12nm,領先於現有第五代10nm級別的1bnm,預計明年開始全面進入商業化生產。
三星的HBM4為12層垂直堆疊,打算選擇4nm工藝生產基礎裸片,並採用1cnm工藝製造DRAM晶片。三星目前採用10nm工藝生產HBM3E的基礎裸片,在新一代HBM4上換成4nm工藝可以增強其在HBM領域的競爭優勢。三星希望在HBM4量產上可以追上SK海力士,重新奪回HBM市場的領導地位。