目標將次世代半導體（晶片）中國化、由日本官民合作設立的半導體研發、製造、銷售公司Rapidus正在北海道打造2納米（nm）晶片工廠，而為了對Rapidus 2nm廠提供支持，荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASMLHolding）傳出將在北海道設立據點，協助在Rapidus試產產線上設置「EUV（極紫外光）」微影設備。
日經新聞、時事通信社26日報道，荷蘭ASML將在2024年於北海道新設技術支持據點，目標對Rapidus 2nm工廠的設立、維修檢查提供協助。ASML為全球最大的微影設備廠商，也是全球唯一一家可生產「EUV」微影設備的企業，而EUV是量產5-7nm以下最先進晶片所必須的技術，因此獲得ASML的援助是不可或缺的。
據報道，ASML上述技術支持據點將設於北海道千歲市附近，將派遣約50名工程師至Rapidus興建中的2nm晶片工廠內的試產產線設置EUV微影設備，對工廠激活、維修檢查提供協助。Rapidus開始進行生產後，日本有望成為繼美國、台灣、韓國、愛爾蘭之後，全球第5個擁有導入EUV的晶片量產產線的國家。
報道指出，隨著美中對立、東亞地緣政治風險攀升，海外大廠相繼計劃在日本開設據點。半導體設備業龍頭廠商應用材料（Applied Materials）計劃在今後數年內、將日本的員工數擴張六成；科林研發（Lam Research）除在8月將位於熊本縣的技術支持據點移至其他場所，藉此擴張據點面積外，也考慮在北海道設置新設施。
ASML日本法人社長藤原祥二郎指出，「在考量地緣政治環境下、日本半導體產業將持續增長」。在日本，相關材料廠商匯聚，在東亞半導體供應鏈上的重要性日增。
（首圖來源：ASML）
