晶片代工龍頭台積電在近日舉辦的IEEE國際電子組件會議（IEDM）的小組研討會上透露，其1.4納米製程技術研發已經全面展開。同時，台積電重申，2納米製程技術將按計劃於2025年開始量產。
外媒報道，台積電的1.4納米製程技術的正式名稱為A14，不過在會議上，台積電尚未透露A14製程技術的量產時間和具體參數。但因為到2納米製程技術將在於2025年底量產，接下來的N2P製程技術於2026年底量產，因此A14製程技術預計將會在2027-2028年問世。
在技術方面，A14製程技術不太可能採用垂直堆棧互補場效應電晶體（CFET）技術。不過，台積電仍在發展這項技術。因此，A14可能將像N2製程技術一樣，依賴於台積電的第二代或第三代環繞柵極場效應電晶體（GAAFET）技術。另外，N2和A14製程技術也需要系統級優化，才能真正發揮作用，並完成新的性能、功耗水準。
報道表示，當前還不清楚台積電是否會真的在2027-2028年的時間點量產A14製程技術採用High-NA EUV曝光技術。只是，考慮到屆時英特爾預計將採用High-NA EUV曝光技術的情況下，台積電使用這些機器應該相當容易入手。然而，由於High-NA EUV曝光技術將打光罩尺寸減半，這將給晶片設計人員和製造商帶來一些新的需求和挑戰。
當然，從現在到2027-2028年，其中很多事情都可能還會有所發生變化，但可以肯定的是，台積電的工程師和開發人員正在致力於下一代製程節點的研發。
(首圖來源：台積電)
