光罩護膜/薄膜是極紫外 (EUV) 光刻工藝中的關鍵部件，指的是在光罩上展開的一層薄膜，然後機器在上面繪製要在晶圓上壓印的電路，以免光罩受空氣中微塵或揮發性氣體的污染，同時減少光掩模的損壞。目前該領域的主要供應商是荷蘭ASML、日本三井化學和韓國S&S Tech。
三星在Foundry Forum 2021上就宣布自研EUV薄膜，今年初已自主開發出透光率達88%的EUV薄膜。按照三星的說法，該款EUV薄膜應該已量產，這有助於其實現供應鏈的多元化和穩定。三星當然也不會滿足於此，畢竟88%透光率並不是市場上最好的同類產品。
據Business Korea報道，三星半導體研究生近期發布的一份招聘通知顯示，正推動開發透光率為92%的EUV薄膜。目前市場上也有透光率達到90%或以上的EUV薄膜，一家是ASML，另外一家是S&S Tech，後者在2021年成功開發出透光率為90%的EUV薄膜。
據了解，三星已開始了對下一代High-NA EUV薄膜的研究，新一代EUV薄膜將基於新材料，同時三星也將與外部機構合作，開發和評估由碳納米管和石墨烯製成的EUV薄膜。此外，三星也將推動自行開發的納米石墨薄膜批量生產設施的設計。
三星在晶圓代工領域的頭號競爭對手台積電（TSMC）從2019年開始，就使用了自己開發的EUV薄膜，並且在2021年時宣布，其EUV薄膜的產能相比2019年將提高20倍。有業內人士表示，三星推動EUV薄膜的開發，是為了更快地趕上台積電。
