作為晶圓代工行業中最重要的產品，光刻機的優秀與否將決定製程工藝的先進性，而目前在EUV領域，毫無疑問ASML成為了絕對的巨頭，幾乎壟斷了EUV光刻機的生產與研發。廣大晶圓代工巨頭也等待著ASML推出的新一代光刻機來提升自己的代工實力。目前ASML表示自家目前最先進的光刻機TWINSCAN EXE：5200即將交付給客戶，從而為2nm等更加先進的工藝提供前有力的硬體保證。
ASML目前已經確認將會在不久之後正式交付新一代的EUV光刻機也就是TWINSCAN EXE：5200，這款光刻機是TWINSCAN EXE：5000的強化版，ASML表示全新的TWINSCAN EXE：5200光刻機最高可以實現每小時185片晶圓的製造，為今後2nm等製程提供堅實的硬體基礎。
ASML稱目前的之前光刻機的孔徑透鏡精度為0.33，而到了TWINSCAN EXE：5200以及TWINSCAN EXE：5000，孔徑透鏡精度達到了0.55，相比較上一代產品有著極為明顯的提升，不過由於技術的提升，每一台光刻機的售價也是達到了相當驚人的程度，據悉TWINSCAN EXE：5000的單價可以達到3.5億歐元，相當於26.3億，而TWINSCAN EXE：5200的報價顯然更高。
目前英特爾已經宣布將會成為首位採用TWINSCAN EXE：5200光刻機的客戶，用於新一代製程晶圓的製造，就是不知道在採用先進光刻機之後，英特爾晶圓代工能否打個翻身仗。
