英偉達（Nvidia Corp.）在2024年「GPU Technology Conference」（又稱GTC大會）宣布，台積電、電子設計自動化（EDA）軟體商新思科技（Synopsys）已開始在各自的製程、軟體及系統中使用「cuLitho」軟體資料庫來加快表達式微影（computational lithography），協助晶片商運用高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備等先進晶片製造工具，在轉入2納米以下電晶體時突破限制。
Tom's Hardware、Investing.com等外電報道，英偉達首席執行官黃仁勛（Jensen Huang）18日通過新聞稿表示，表達式微影乃晶片製造的基石。台積電、Synopsys採納cuLitho來加快晶片製造速度後，未來將支持英偉達最新時代的Blackwell架構GPU。
舉例來說，表達式微影是運算負載最高的半導體製程，若使用CPU、每年得耗費數十億小時。光是典型的晶片光罩組（為生生產機製程的關鍵步驟），就需要3,000萬小時或更多的CPU運算時間，因此晶片廠內都需要設置大型數據中心。
通過加速計算，如今只要內置350顆英偉達H100的系統，就能取代內置4萬顆CPU的系統，能加速生產時間，同時降低成本、節省空間和能源。
英偉達18日在正常盤上漲0.7%、收884.55美元；盤後下跌1.76%至869美元。台積電ADR在正常盤上漲0.16%、收136.64美元；盤後下跌0.25%至136.30美元。Synopsys在正常盤上漲1.93%、收560.63美元；盤後續漲2.52%至574.74美元。
（首圖來源：英偉達）
