這也是歐洲首家使用下一代光刻技術進行商業生產的工廠。
英特爾正準備在其位於愛爾蘭萊克斯利普的工廠啟動Intel 4工藝的批量生產，這也是晶片巨頭首個使用極紫外（EUV）光刻技術的生產節點。
英特爾公司將於周五邀請CEO Pat Gelsinger和首席全球運營官Keyvan Esfarjani等重量級人物參加活動，慶祝Intel 4在其愛爾蘭工廠的正式落地。這項新工藝將用於打造即將推出的Meteor Lake PC處理器。
同時，該公司宣稱新的製程技術也開創了「其他英特爾產品的未來」，包括用於增強AI的處理器，以及用於驅動數據中心的改進伺服器晶片。此外，英特爾還聲稱，Intel 4的推出使該公司有望在未來四年內交付五個節點，並「到2025年重新獲得工藝領先地位」。
18個月的設計與施工，只為籌備極紫外光刻設備容納場地
儘管Intel 4的開發和早期製造是在英特爾位於俄勒岡州的工廠進行，但萊克斯利普製造工廠才是該節點的首個批量生產設施。英特爾表示，過去幾年間他們已經斥資170億歐元將該處工廠的生產空間擴大了一倍。
該晶片製造商此前曾經表示，與採用Intel 7製造的產品相比，Intel 4將使每瓦性能提高20%。但千萬別被名稱迷惑了，Intel 7並不是7納米製程，而是採用英特爾增強型SuperFin電晶體的10納米工藝。
該公司指出，Intel 4是通過EUV光刻技術實現的。這是因為EUV設備能夠比以往使用深紫外光刻（DUV）的套件更小、更精確地定義晶片特徵。英特爾表示，通過使用13.5納米波長的紫外光，即可製造出更小的特徵並減少所需的總體製造步驟。
目前，全球僅有ASML能夠生產極紫外光刻設備。英特爾去年宣布從這家荷蘭公司處拿到了第一批套件，用於裝備其萊克斯利普工廠。
英特爾當時解釋稱，「這可以說是人類建造過的最複雜的機械」，擁有10萬個零件、3000根線纜、4萬個螺栓加上超過1英里長的軟管，且容納該裝置的場地先後花了18個月才設計和建設完成。
其他半導體製造商，例如台灣台積電，擁有EUV設備已經有段時間了。然而這家全球最大的代工運營商最近表示，面對充滿不確定性的市場現狀，他們將停止進一步交付某些先進晶片製造設備。
Gartner公司新興技術與趨勢部門副總裁分析師Alan Priestley評論稱，「對於晶圓代工廠來說，EUV並不是真正的問題，批量生產特定節點的能力才是（這一點非常重要）。如果能做到這一點、但又不需要藉助EUV，那沒有任何廠商會非得使用EUV。所以儘管台積電確實比英特爾更早地用上了EUV，但這並不一定意味著英特爾技術上的落後。真正決定一切的，永遠是交付特定節點的能力。展望未來，新節點可能需要EUV乃至即將推出的NA-EUV。」
