日本半導體創業公司Rapidus成為日本首間獲得極紫外線（EUV）曝光設備的公司，目前已開始在北海道千歲市在建晶片廠安裝設備。該公司首席執行官小池淳義（Atsuyoshi Koike）18日在新千歲機場舉行的典禮上表示，將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。
日經報道稱，ASML製造的第一批EUV曝光系統已於14日運抵機場，本月底將在晶片廠完成安裝。由於該系統體積龐大，將分四階段安裝，一個完整設備重達71噸，如同一頭鯨魚，高度為3.4米。
ASML是全球唯一EUV設備供應商，每個設備成本約1.8億美元以上，視機型而定。目前只有少數晶片製造商採用，包括台積電、三星電子和英特爾，去年全球僅交貨42台。
據悉，小池淳義於11月陪同ASML監事會成員Martin van den Brink參觀無塵室及工廠其他區域。Van den Brink作為ASML前首席技術官，在EUV技術的開發中發揮領導作用，並批准相關安裝工程進行。
Rapidus正與IBM合作，計劃2025年春季完成2納米製程晶片原型開發，並在2027年實現量產。相比之下，晶片代工龍頭台積電則計劃2025年開始量產2納米晶片。
日本半導體業曾在1980年代占據全球超過50%的市場占有率，但到2000年代已退出更小尺寸邏輯晶片的競爭，目前沒有一家日本晶片製造商能生產40納米以下的先進晶片。Rapidus在日本政府支持下成立，旨在重振日本先進晶片的生產能力，降低對進口的依賴。日本政府目標到2030年實現國內半導體銷售額達15兆日元，為2020年的三倍。
日本承承包商鹿島建設（Kajima）正興建專門用於安裝Rapidus EUV系統的大樓，無塵室則由高砂熱學工業（Takasago Thermal Engineering）負責。為了累積專業知識，Rapidus已派遣約150名工程師前往IBM學習生產線管理技術。
根據日本政府數據，全球先進半導體市場預計到2030年將增至53兆日元，相較2020年增長近八倍。
（首圖來源：Rapidus）
