此前ASML宣布，英特爾正在Intel 18A工藝上採用High-NA EUV光刻技術，生產部分代號「Panther Lake」的第三代酷睿Ultra系列處理器，成為了業界首個採用High-NA EUV光刻技術大規模生產邏輯晶片的企業。目前英特爾位於美國俄勒岡州希爾斯伯勒的Intel 18A生產線已完成High-NA EUV雙重認證，良品率達到了現有NXE EUV平台的水平。
據TrendForce報道，三星去年引入了首台High-NA EUV光刻機，成為了英特爾（2023年末）和台積電（2024年第三季度）之後，第三家安裝High-NA EUV光刻機的半導體製造商。儘管三星也在推進High-NA EUV光刻機的使用，但是進度上明顯要比英特爾慢，更多地只是停留在技術研發和試用階段，現階段並沒有打算用於大規模生產。
有業內人士表示，三星謹慎的做法更多反映了在財務方面的考量，而非技術限制。過去數年裡，三星投入了大量資源在先進制程技術的開發上，不過並沒有取得令人滿意的收益，2022年至今一直處於虧損狀態，預計要到今年第四季度才會扭虧為盈。選擇暫緩引入High-NA EUV技術，旨在減少額外資本投資，避免晶圓代工廠進一步擴大虧損。
如果High-NA EUV光刻機用於大規模生產，將大幅提高折舊及其他固定運營成本，現在三星看到了晶圓代工業務回暖，盈利近在眼前，不願意增加資本支出，以免出現更長時間虧損。三星希望堅持更為保守的資本支出策略，直到主要客戶的訂單能夠進一步支撐其盈利能力。
