外媒報道，美國政府投資價值約10億美元研究中心，以開發下一代極紫外光（EUV）製程技術，挑戰荷蘭產業領導者艾司摩爾 (ASML)。
美國政府支助價值8.25億美元的EUV設備將設於Albany NanoTech Complex，成為首個「為美國晶片而生」（CHIPS for America）計劃的R&D旗艦設施，並將獲得額外用戶資金。半導體設備商應材 (Applied Materials) 預計將成為主要參與者之一，以直接與ASML競爭。面對競爭，ASML於2024年6月與比利時imec合作，開設類似實驗室。
EUV設備將專注開發最先進的高數值孔徑EUV研發。美國表示，EUV曝光技術已成為完成7納米以下電晶體大量生產的關鍵技術，包括台積電等主要晶片製造商都採取相關技術。因此，美國政府表示，獲得EUV曝光技術研發的機會，對於延續美國的半導體技術領先地位、縮短原型開發時間和成本，以及創建和維持半導體人才生態系統非常重要。
美國國家半導體技術中心 (NTSC) 及母組織Natcast成員將於2025年獲得標準EUV曝光設備的使用權，並於2026年獲得High-NA EUV曝光機的使用權。從2024年開始，ASML已經開始向英特爾和其他晶片製造商提供High-NA EUV曝光機。美國商務部長Gina Raimondo表示，通過這個旗艦設施，CHIPS for America計劃為NSTC提供了先進研究和工具的機會，並啟動代表著確保美國在創新和半導體研發方面保持全球領導地位的重要里程碑。
Albany NanoTech Complex現已成為由IBM轉型而出的非營利組織NY Creates一部分，將於2025年開始初期運營，並允許Natcast、NY Creates和NSTC成員合作，開展研發活動。對此，美國商務部標準與技術副部長兼國家標準與技術研究所所長Laurie Locascio表示，憑藉20年培育有效公私合作夥伴關係的經驗，以及自成立以來在半導體研發、製造和人才發展方面投資超過250億美元，NY Creates處於獨特地位，可以支持NSTC的使命，提供開放環境以加速研究、縮短商業化時間，並在美國培育可持續的半導體生態系統。
Synopsys前高層、也是當前Natcast首席執行官的Deirdre Hanford指出，CHIPS for America的EUV設備強調致力美國開發和推進下一代半導體技術的承諾。與NY Creates合作，使Natcast和NSTC成員獲必要EUV曝光機和流程，以促進更廣泛的研究，並加速未來技術的商業化。
(首圖來源：ASML)
