蘋果正為未來的iPhone相機測試新的抗反射光學塗層技術

韓國方面消息稱，蘋果正在為未來的iPhone相機測試一種新的抗反射光學塗層技術，該技術可以通過減少鏡頭光暈和重影等偽影來提高照片質量。

贊助商廣告

據Naver博客上的新聞聚合賬號「yeux1122」援引蘋果供應鏈中消息人士的話稱，蘋果正在考慮將新的原子層沉積(ALD)設備引入iPhone相機鏡頭的製造過程。

ALD涉及一次在基片上沉積一層原子層的材料，允許對厚度和成分進行極其精確的控制。它的使用使製造商可以將非常薄的材料層應用到半導體設備上，包括相機組件。

在相機鏡頭方面，ALD可用於應用抗反射塗層，這有助於減少當陽光等明亮光源直接照射到鏡頭時最終圖像中可能出現的光線條紋和光暈等攝影偽影。

ALD還可以減少重影，這是一種圖像失真類型，在照片中出現微弱的次要圖像，通常與明亮的光源相對。當光線在鏡頭元件和相機傳感器的表面之間來回反射時，就會發生這種情況。

此外，應用了ALD的材料可以防止環境對相機鏡頭系統的破壞，而不會影響傳感器有效捕捉光線的能力。

Naver博客聲稱，這種製造工藝將被應用於蘋果「下一代」iPhone陣容中的「Pro機型」，這聽起來像是指iPhone 16系列中的一款或兩款高端機型。